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저비용으로 고순도 캡 제조 2019-03-13 16:35:05

좋은 완충제는 일반적으로 설 팜산을 기본으로하는 유기 화합물 인 양성 이온 완충제이며, ph 값은 비교적 안정하며 다양한 효소 및 화학 약품과 반응하지 않습니다. 그것은 주로 생물학 및 의학 분야에서 사용됩니다. 대문자n- 시클로 헥실 -3- 아미노 프로판 술폰산)는 효소 화학 및 hplc에 의해 염기성 약물을 분리하는데 일반적으로 사용되는 좋은 완충제 중 하나이다. 따라서, 그 준비는 매우 중요합니다. 반응 조건을 저감시키기 위해, 일반적으로 제조 공정에서 촉매 및 적 외광 조사의 조건 하에서 수행되는 반면, 제조 비용은 증가된다. 동시에, 반응 조건의 불안정성으로 인하여 정제의 순도를 향상시키는 것이 어렵다. 이 기사에서는 준비를위한 저비용 방법에 대해 설명합니다.고순도 캡.


준비 과정에는 다음이 포함됩니다.
(1) 세륨 광 희토류가 도핑 된 나노 이산화 티타늄의 제조 : 티타늄 분말과 세륨 광 희토류가 10 : 1의 중량비로 혼합되고, 머플로에서 650 ℃의 온도에서 15 시간 동안 하소되며, 증류수에 용해시켰다. 수 욕조에서 진탕하고, 65 ℃에서 60 분 동안 진탕 혼합하고, 마지막으로 여과하고 건조시켰다.
(2) 설페이트, 바이 설 파이트 및 프로 페놀을 특수 촉매 하에서 1,3- 프로판 설포 네이트를 제조하기 위해 반응시키고, 반응 온도를 65 ~ 90 ℃, ph를 6 ~ 6.5, 반응 시간을 4 ~ 12 시간으로하고, 반응 몰비는 프로 페놀 : 바이 설 파이트 : 아황산염 = 1 : 1.1 ~ 1.7 : 0.1 ~ 0.6;
(3) 얻어진 1,3- 프로판 술폰산 염산을 탄산과 30 ~ 50 ℃에서 1 ~ 2 시간 반응시켜 1,3- 프로판 술폰산을 얻는 단계;
(4) 얻어진 1,3- 프로판 술폰산과 시클로 헥실 아민을 70~90 ℃의 수욕 중에서 2~5 시간 반응시켜 3- 시클로 헥실 아민 -1- 프로판 술폰산의 조 생성물을 얻는다;
(5) 3- 시클로 헥실 아민 -1- 프로판 술폰산의 조 생성물을 분자 증류 기술에 의해 온도 140 ~ 150 ℃ 및 압력 13 ~ 266 Pa에서 탈수 시킴;

(6) 아세톤으로 3 ~ 7 회 세척하여 시클로 헥실 아민 (아세톤 세척 된 아세톤과 조 3- 시클로 헥실 아민 -1- 프로판 술폰산의 비는 5 : 8 임)을 제거하고, 최종적으로 3- 시클로 헥실 아민을 증류수로 3 ~ 7 회 및 500 ml의 증류수를 사용하여 정제 된 3- 시클로 헥실 아민 -1- 프로판 술폰산을 얻었다.


희토류 세륨을 갖는 나노 미터 이산화 티타늄 촉매는 촉매 성능이 높고, 반응은 적외선 광의 조사없이 수행 될 수있다. 아황산염 및 중아 황산염은 널리 사용되며 반응에서 쉽게 제거된다; 세척 공정 중에 피크를 효과적으로 세척하여 최대의 아세톤 절감 효과를 얻고 생산 원가를 낮출 수 있습니다.


참고

위안 xuesheng. 준비 방법3- 시클로 헥실 아민 -1- 프로판 술폰산. 2016.11.16, cn106117088a


에 의해 편집 됨소주 yacoo 과학 공동., 환영합니다.
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